①碳化硅器件優勢明顯,是下一代功率半導體發展方向
回顧功率半導體的發展歷史,技術進步不斷誕生新型的功率器件。1957年美國通用電氣研制出世界上第一只晶閘管,開啟了功率半導體產業發展的序幕。六十到七十年代是晶閘管統治功率器件的全盛時代;八十年代晶閘管與MOSFET共同主導了功率器件市場;到九十年代,晶閘管逐步讓位于MOSFET及IGBT,中小功率應用MOSFET開始主導市場,IGBT則統治了中大功率應用。
功率半導體器件形態更新換代歷史

資料來源:公開資料整理
相關報告:智研咨詢發布的《2018-2024年中國碳化硅行業運營態勢與投資方向研究報告》
碳化硅和氮化鎵是下一代功率半導體的核心技術方向。碳化硅器件的效率、功率密度等性能遠遠高于當前市場主流產品。受制于成本因素,碳化硅功率器件市場滲透率不到1%。我們判斷技術進步將推動碳化硅成本快速下降,中長期看碳化硅器件將會是功率半導體的市場主流產品。
碳化硅相對硅器件的優勢
相比硅基器件,碳化硅器件具備高耐壓、低損耗、高效率的特點,是理想的功率管理元件。
工作頻率高:硅基IGBT一般工作在20Khz的頻率,而碳化硅基MOSFET在100Khz頻率下依然能夠保持高效率的運轉。
耐受溫度高:碳化硅基器件能夠耐受更高的工作溫度,硅基IGBT最多在150-200度工作,而碳化硅基MOSFET在200-250度依然能夠正常工作。
效率高:碳化硅器件的開關損耗及導通損耗大幅降低。一般開關損耗是硅器件的15-30%,大幅提升能源的利用效率。
總結起來,碳化硅最核心的優勢有兩方面,一是開關損耗小、導通損耗小,因而能源利用效率遠遠高于硅器件,損耗僅僅為同等硅器件的15%-30%;二是模塊尺寸小。由于碳化硅芯片能工作在更高的頻率,與之配套的外圍電容電感尺寸大幅縮小,碳化硅模塊的尺寸往往僅僅為硅器件模塊的1/5。
硅及第三代半導體材料關鍵電子參數對比
特性 | 硅 | 碳化硅 | 砷化鎵 | 氮化鎵 |
能帶間隙 | 1.12 | 3.26 | 1.43 | 3.5 |
電子遷移率 | 1400 | 900 | 8500 | 2000 |
擊穿電強 | 6 | 3 | 0.4 | 3 |
熱導率 | 1.5 | 4.9 | 0.5 | 1.3 |
飽和漂移速度 | 1 | 2.7 | 2 | 2.7 |
資料來源:公開資料整理
目前碳化硅器件主要用于600伏及以上的應用領域,特別是一些對能量效率和空間尺寸要求較高的應用,如電動汽車充電裝置、電動汽車動力總成、光伏微型逆變器領域等應用。
碳化硅產品化的里程碑事件

資料來源:公開資料整理
碳化硅器件的市場定位于功率在1kw-500kw的應用,工作頻率定位在10khz-10Mhz。
各種功率半導體器件的工作頻率及工作電壓

資料來源:公開資料整理
碳化硅功率器件年產值

資料來源:公開資料整理
②碳化硅重在中大功率,氮化鎵重在中小功率
碳化硅、氮化鎵在應用領域上略有區分,碳化硅的優勢應用領域集中在中大功率應用,而氮化鎵集中在中小功率應用。
碳化硅與氮化鎵應用領域的區分

資料來源:公開資料整理
③碳化硅成本不斷下降,滲透率將持續提升
2012年碳化硅二極管的成本是硅基肖特基二極管的5-7倍,碳化硅MOSFET是硅基MOSFET成本的10-15倍。經過3年時間,碳化硅二極管的價格下降了35%,碳化硅MOSFET的價格下降了50%。
我們認為碳化硅成本將持續下降,驅動成本下降的主要有以下幾個因素。
(1)4寸線向6寸線遷移的過程降低20-40%成本。
(2)碳化硅外延片技術在持續進步,顆粒污染等缺陷率在持續下降,推動芯片良率大幅上升。
(3)隨著規模的擴大和經驗的積累,碳化硅芯片制程工藝日益成熟,制造的良率在持續提升
目前碳化硅、氮化鎵產品的成本相對較高,應用領域受限于一些性能要求高的領域。整體來看,碳化硅器件的良率和硅工藝有著明顯的差距。
碳化硅器件單價持續下降

資料來源:公開資料整理
④汽車應用將推動碳化硅滲透率快速上升
汽車應用領域,碳化硅器件替代硅器件是確定的發展趨勢。碳化硅功率器件的應用領域在持續的拓展。早期碳化硅主要應用于功率校正電路(powerfactorcorrection電路),目前量產應用領域已經拓展至光伏逆變器、汽車車載充電機(onboardcharger)。預計2019-2020年,電動車動力系統將導入碳化硅功率器件,進一步拓寬量產應用領域。
目前Tier-1汽車供應鏈企業都在嘗試導入碳化硅,積極開展碳化硅功率器件的測試工作。豐田在2015年2月啟動了碳化硅功率器件的實車測試工作,路測原型車在PCU的升壓轉換器和電機控制逆變器搭載了碳化硅功率器件。據調研信息,比亞迪已經在電動車車載充電機(chargeronboard)導入碳化硅功率器件。
配置碳化硅器件的豐田路測車輛

資料來源:公開資料整理
碳化硅功率系統的BOM成本僅僅比硅基功率系統高60%。我們認為隨著碳化硅成本的進一步降低,大規模替代硅基功率器件勢在必行。當碳化硅/氮化鎵工作在更高的開關頻率,所需要的配套外圍電子元件、冷卻系統成本大幅降低。雖然論單個器件成本,碳化硅/氮化鎵是硅基器件的5倍以上。但是論系統整體成本,碳化硅/氮化鎵的與硅基器件的成本差距已經非常小。根據數據,單個60kw碳化硅功率模塊的BOM成本在732美金,而響應的硅基IGBT功率模塊的BOM成本約為458美金,碳化硅功率系統僅僅比硅基功率系統成本高出60%。
混合動力汽車的逆變器(含功率半導體)成本分拆

資料來源:公開資料整理
⑤國內產業鏈初具雛形
碳化硅產業鏈可分為三個產業環節,一是上游襯底,二是中游外延片,三是下游器件制造。國外供應鏈體系主要有:
襯底:Cree、Rohm、EPISIL
EPI外延片:Cree、Rohm、英飛凌、GE、三菱
器件:英飛凌、Cree、Rohm、意法半導體、美高森美、GenSiC、三菱
碳化硅器件方面,國際上碳化硅SBD、碳化硅MOSFET均已實現量產,產品耐壓范圍600v-1700v,單芯片電流超過50A。
國際碳化硅產業鏈主要公司

資料來源:公開資料整理
國內已經形成相對完整的碳化硅產業鏈體系。
襯底材料:山東天岳、天科合達、河北同光晶體、北京世紀金光
EPI硅片:東莞天域半導體、廈門瀚天天成
器件:泰科天潤、瀚薪、揚杰科技、中電55所、中電13所、科能芯、中車時代電氣
模組:嘉興斯達、河南森源、常州武進科華、中車時代電氣
目前碳化硅市場處于起步階段,國內廠商與海外傳統巨頭之間差距較小,國內企業有望在本土市場應用中實現彎道超車。國內企業已經在碳化硅SBD形成銷售收入,碳化硅MOSFET的產業化尚在原型器件研制階段。另外國內已經開發出1700V/1200A的混合模塊(硅IGBT與碳化硅SBD混合使用)、4500V/50A等大容量全SiC功率模塊。
國內碳化硅產業鏈

資料來源:公開資料整理
智研咨詢 - 精品報告

2026-2032年中國碳化硅器件行業市場現狀分析及發展趨向研判報告
《2026-2032年中國碳化硅器件行業市場現狀分析及發展趨向研判報告》共十一章,包含中國碳化硅器件行業重點企業推薦,2026-2032年中國碳化硅器件產業發展前景與市場空間預測,2026-2032年中國碳化硅器件行業投資機會及風險分析等內容。
公眾號
小程序
微信咨詢















