2019年中國濺射靶材市場應用結構及企業格局分析[圖]

濺射靶材游震 2020-05-15 05:34 來源：智研咨詢

靶材：濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。

濺射靶材產業鏈基本呈金字塔型分布。產業鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環節。其中，靶材制造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。

高純靶材產業鏈

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濺射靶材的制備工藝主要分熔融鑄造法和粉末冶金法兩種。熔融鑄造法的優點是靶材雜質含量(特別是氣體雜質含量) 低, 密度高, 可大型化，缺點是需要后續加工和熱處理工藝降低其孔隙率，難以做到成分均勻化。粉末冶金法優點是靶材成分均勻，節約原材料，生產效率高；缺點是密度低, 雜質含量高。

靶材的基本制備工藝

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為推動濺射靶材產業發展，增強產業創新能力和國際競爭力，帶動傳統產業改造和產品升級換代，進一步促進國民經濟持續、快速、健康發展，我國推出了一系列支持濺射靶材產業發展的政策。

濺射靶材相關政策

政策名稱	內容
《2014-2016 年新型顯示產業創新發展行動計劃》	產業鏈提升行動：推動高純度鉬（Mo）、鋁（Al）、鈦（Ti）、銅（Cu）等金屬靶、氧化銦錫（ITO）靶材、氧化銦鎵鋅（IGZO）靶材的研發和產業化
《中國制造 2025》	1）戰略方針和目標：圍繞重點行業轉型升級和新一代信息技術、智能制造、增材制造、新材料、生物醫藥等領域創新發展的重大共性需求；著力破解制約重點產業發展的瓶頸，核心基礎零部件（元器件）、先進基礎工藝、關鍵基礎材料和產業技術基礎等工業基礎能力薄弱，支持核心基礎零部件（元器件）、先進基礎工藝、關鍵基礎材料的首批次或跨領域應用。將新一代信息技術、高端裝備、新材料、生物醫藥作為戰略重點；（2）戰略任務和重點：加強“四基”創新能力建設。強化前瞻性基礎研究，著力解決影響核心基礎零部件（元器件）產品性能和穩定性的關鍵共性技術。加大基礎專用材料研發力度，提高專用材料自給保障能力和制備技術水平；（3）戰略支撐與保障：積極發揮政策性金融、開發性金融和商業金融的優勢，加大對新一代信息技術、高端裝備、新材料等重點領域的支持力度。
《有色金屬工業發展規劃（2016－2020 年）》	圍繞新一代信息技術產業的集成電路、功能元器件等領域需求，利用先進可靠技術，加快發展大尺寸硅單晶拋光片、超大規格高純金屬靶材、高功率微波/激光器件用襯底及封裝材料、紅外探測及成像材料、真空電子材料等，實現新一代微電子光電子功能材料、智能傳感材料研發及產業化取得突破，提升高端有色金屬電子材料供給水平
《稀土行業發展規劃（ 2016-2020年）》	開發超高純稀土金屬及其靶材等深加工產品的制備技術和批量化生產裝備，研制超高純及特殊物性稀土化合物材料及規模制備技術和裝備，滿足高端電子器件和芯片、功能晶體、集成電路、紅外探測、燃料電池、特種合金、陶瓷電容器等應用需求
《新材料產業發展指南》	加強大尺寸硅材料、大尺寸碳化硅單晶、高純金屬及合金濺射靶材生產技術研發，加快高純特種電子氣體研發及產業化，解決極大規模集成電路材料制約。加快電子化學品、高純發光材料、高飽和度光刻膠、超薄液晶玻璃基板等批量生產工藝優化，在新型顯示等領域實現量產應用。開展稀土摻雜光纖、光纖連接器用高密度陶瓷材料加工技術研發，滿足信息通信設備需求