2025年中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠?行業(yè)政策、產(chǎn)業(yè)鏈圖譜、發(fā)展現(xiàn)狀、企業(yè)布局及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)研判：國(guó)產(chǎn)替代加速，光刻膠百億空間開(kāi)啟[圖]

半導(dǎo)體光刻膠，又稱光致抗蝕劑，是一種通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射后，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。作為光刻工藝的核心耗材，光刻膠在半導(dǎo)體制造中扮演著將掩模版上的電路圖形精準(zhǔn)復(fù)制到晶圓表面的關(guān)鍵角色。其性能直接影響芯片的分辨率、良率和制造成本，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)壁壘最高的環(huán)節(jié)之一。