一、電子行業薄膜制備關鍵原料，預計 2016-2019 全球靶材市場增速達 13%

    靶材全球市場預計 16-19 復合增速 13%。 2016 年全球濺射靶材市場容量達 113.6 億美元，相比于 2015 年的 94.8 億美元增長 20%。預測 2016-2019 年均復合增長率達 13%， 到 2019 年全球高純濺射靶材市場規模將超過 163 億美元。 2016 年全球靶材市場的下游結構中，半導體占比 10%、平板顯示占 34%、太陽能電池占 21%、記錄媒體占 29%，靶材性能要求依次降低。

2014-2016 全球靶材市場規模

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    相關報告：智研咨詢網發布的《2018-2024年中國濺射靶材產業深度調研及未來發展趨勢報告》

2016 年全球濺射靶材應用結構

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    市場集中度高，日、美占據 80%高端靶材市場。 濺射靶材由于其高技術、高投資、高客戶壁壘，具有規模化生產能力企業較少，以霍尼韋爾、日礦金屬、東曹、普萊克斯等為代表的靶材龍頭企業 2017 年占據全球約 80%靶材市場。美、日等跨國企業產業鏈較為完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用各個環節，主導高端的半導體靶材市場；韓國、新加坡及中國臺灣地區擅長磁記錄及光學薄膜領域，原料多從國外進口；中國靶材產業正處于起步階段，逐步切入以原料以進口為主的全球主流半導體、顯示、光伏等龍頭企業客戶。

    二、國國內靶材市場需求情況分析及預測

    1、 平面顯示：靶材第一大應用，切入京東方等國內顯示龍頭的供應體系是關鍵我國平面顯示靶材市場發展迅猛， 2016 年市場規模已達到 80 億元。 2013-2016 年，全球平板顯示用濺射靶材市場規模分別為 29.5 億美元、 31.4億美元、 33.8 億美元和 38 億美元。其中，我國平板顯示用濺射靶材 2013-2016 市場規模分別為 39.4 億元、 55 億元、 69.3 億元和 80 億元。中國平面靶材需求在全球占比已經從2013 年約 20%提升到 2016 年占比超過 30%。

2013-2016 年全球平面顯示靶材市場規模

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2013-2016 年中國平面顯示靶材市場規模

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    預計 2018-2020 年國內顯示靶材需求增速維持 20-25%增速。 中國大陸從上世紀 80 年代開始進入液晶顯示領域，在政府政策導向和產業扶植下，我國大陸液晶顯示產業快速發展，成為平板顯示行業發展速度最快的地區。2016 年中國平板顯示器件產業整體規模達到 1500 億元，同比增長 25.99%； 2012-2016 年國內平板顯示增速基本保持在 25%以上。 此外考慮到國內 LCD 國產替代進程加速、再加上 OLED 滲透率有 望快速提升，預計 2018-2020 年國內平板顯示產業增速將至少維持在 20-25%；對應到國內顯示靶材的需求也將相應增加。

    2、半導體靶材：靶材應用的戰略高地17-20 年全球半導體增速有望超預期， 17 年國內半導體增速 24.81%。 半導體靶材性能要求位居各類應用之首。 半導體行業所需濺射靶材主要用于晶圓制造材料和封裝測試材料。芯片制造對濺射靶材純度要求很高，通常需達 99.9995%（5N5）甚至 99.9999%（6N）以上。 2017 全球半導體產業超預期增速 21.62%，從下游需求結構看，17 年增長主要源于半導體的主要應用是集成電路中的存儲器，增速達到 61.49%，增量來源于人工智能、大數據、汽車電子等領域對高性能芯片需求快速提升。 從 15年開始國內半導體產業維持 20%左右增速，漸成常態。半導體產業從臺灣向國內轉移的趨勢比較確定，國內政策、資金、稅收等各方面也在扶持半導體產業。 國家集成電路產業基金第一期規模 1,387 億元。，至少帶動省市地方基金共 4,651億元，拉動國內企業內生增長和海外并購。 未來第二期基金計劃啟動，也將持續拉動國內半導體產業增長。

2012-2017 全球半導體產業市場規模

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2012-2017 中國半導體產業市場規模

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    2011-2016 全球半導體用靶材年復合增長率 3.17%， 預計 2018-2020 國內半導體靶材需求增速在 20%左右。 國際半導體產業協會(SEMI)全球半導體用濺射靶材銷售額從 2011 年的 10.1 億美元到 2016 年為 11.7 億美元，年均復合增長率為 3.17%，其中晶圓制造用濺射靶材年均復合增長率為 2.07%，封裝測試用濺射靶材年均復合增長率為 4.65%。2016 年我國集成電路用濺射靶材市場規模約 14 億元，年增速達 20%。供給端，隨著國產濺射靶材技術成熟，尤其是國產濺射靶材具備一定性價比優勢，并且符合濺射靶材國產化的政策導向；需求端，半導體產業向國內轉移的趨勢已基本確立，國內半導體產業崛起將推動國內半導體靶材需求的提升。預計 2018-2020 年我國濺射靶材的市場規模有望持續擴大，復合增速將維持在 2016 年 20%左右增速水平。

    3、磁記錄： 應用市場規模可觀，有望從日韓轉移國產替代規模可觀， 不容忽略。 靶材在磁記錄領域的應用容易被市場忽略，一方面因為對應的磁記錄下游增速不算快。 2012-2017 年我國信息記錄材料市場規模復合增速約 10%），另一方面磁記錄靶材在純度上要求并不如半導體和顯示靶材要求高。1）靶材的技術水平指標不僅有純度，在材料缺陷、表面質量控制、材料均一性等維度都有嚴格控制指標； 2）實際上磁記錄靶材生產多數掌握在韓國、臺灣等企業，國內實際上生產磁記錄靶材的企業和產量有限，國產替代化的存量空間可觀。

    太陽能用靶材： 靶材應用的后起之秀

    2011-2016 全球太陽能用靶材增速保持 20%以上。太陽能光伏產業的快速發展給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了可觀的成長空間， 2016 年全球太陽能電池用濺射靶材市場規模23.4 億美元，在全球靶材市場中占比約 21%。2011-2016 年全球太陽能靶材規模增速一直保持在 20%以上。

    三、中國靶材行業發展規模預測

    國內靶材需求和供給反差懸殊，國產替代進程加速。2015 國內靶材需求全球占比近 25%，年速約 20%；但國內靶材企業市場份額不到 2%，供需比例反差明顯。隨著國內濺射靶材技術的成熟和高純鋁生產技術的提高，我國靶材生產成本優勢明顯，靶材原料之一高純鋁的國內進出口量差距也在逐步縮小。隨著 2019 年國家進口靶材免稅期結束，國內靶材企業優勢更加突出。預計 2018-2020 年國內靶材需求將維持 20%以上高速增長，市場份額有望進一步擴大。

    綜上，以 2016 年國內外靶材規模數據為基準，并假設國內各類靶材的需求增速， 測算得出： 18-20 年國內靶材市場需求增速達 20%以上。

2018-2020 國內靶材市場規模預測

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    2012-2016 國內顯示增速 25%2016 國內顯示靶材增速 15%。

2018-2020 國內靶材顯示市場預測

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2018-2020 國內靶材磁記錄市場預測

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2018-2020 國內濺射靶材半導體市場預測

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2018-2020 國內濺射靶材薄膜太陽能市場預測

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2018-2020 國內濺射靶材其他票預測

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2018-2020 國內濺射靶材國內需求市場規模及增速預測

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2018-2020 國內濺射靶材薄膜太陽能市場預測