一、濺射靶材產業鏈概括

    濺射工藝是制備電子薄膜的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在高真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。主要應用場景包括超大規模集成電路制造等。

濺射靶材工作原理

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    相關報告：智研咨詢發布的《2019-2025年中國濺射靶材行業市場潛力分析及投資機會研究報告》

    靶材產業鏈主要分金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜、終端應用四個環節。其中濺射鍍膜是整個產業鏈中技術要求最高的環節。濺射薄膜的品質對下游產品的質量具有重要影響。

濺射靶材產業鏈

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    二、濺射靶材產業下游應用領域發展情況

    在PVD兩大系列鍍膜產品中，濺射鍍膜已成為最主要的薄膜材料制備方法，濺射靶材也是目前市場應用量最大的PVD鍍膜材料。隨著消費類電子產品等終端應用市場的快速發展，濺射靶材市場規模也日益擴大。根據數據，2016年全球高純濺射靶材市場規模約113.6億美元，其中平板顯示、記錄媒體、太陽能電池和半導體分別占34%、29%、21%、10%。預計到2019年全球濺射靶材市場規模將超過163億美元，增幅43%，年復合增長率13%。

全球濺射靶材市場規模（億美元）

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    1.半導體：中國市場增速更加穩定，國產替代前景可期

    半導體集成電路的每個單元器件內部由襯底、絕緣層、介質層、導體層及保護層等組成，其中介質層、導體層、保護層均需用到濺射鍍膜工藝。而集成電路領域鍍膜用靶材主要則包括鋁靶、鈦靶、銅靶、鉭靶、鎢鈦靶等，一般來說，110nm晶圓技術節點以上使用鋁導線，配合鈦材料做阻擋層，而110nm晶圓技術節點以下使用銅導線，配合鉭材料做阻擋層。此外，隨著技術進步，14nm晶圓技術節點中還大量使用鈦材作為高介電常數的介質金屬柵極技術的主要材料。

    近年來半導體市場穩步發展，2018年全球半導體材料銷售額519億美元，其中晶圓制造材料銷售322億美元，封裝材料銷售197億美元，總銷售額同比增長10.65%，增速較2017年繼續增加。數據顯示，濺射靶材市場約占晶圓制造材料的2.6%，約占封裝材料的2.7%，2018年全球半導體用靶材市場規模約13.69億美元。

全球半導體材料銷售額及增長率

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    2006-2018年中國半導體材料銷售額穩步增長，銷售額從2006年的23.8億美元上升至2018年的84.4億美元，從增長率角度來看增速穩定性也大于全球。2018年中國半導體用靶材市場規模約19.48億元，同比增長為11.64%，增速略高于全球均值。

    預期2019年全球半導體材料市場將增長2%，則2019年全球半導體用靶材市場規模約在13.96億美元，中國半導體用靶材市場規模約在19.87億元。

半導體用靶材市場規模及增長率

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    2.平板顯示：維持平穩增長態勢

    平板顯示器種類繁多，包括液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）、有機發光二極管顯示器（OLED）以及在LCD基礎上發展起來的觸控（TP）顯示產品等。濺射靶材主要用于鍍膜，是平板顯示產業基礎環節主要材料。

    平板顯示用濺射靶材的主要品種包括鈮、硅、鉬、鋁、鋁合金、銅、銅合金和氧化銦錫（ITO）等，靶材純度需達99.999%（5N）以上，工藝難度僅次于半導體靶材。

全球液晶電視面板出貨量及同比增速

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全球移動PC面板出貨量及同比增速

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    全球液晶電視面板出貨量在2018年達到2.89億片，同比增長9.1%；2019年1-8月出貨量1.91億片，增速有所放緩，但仍維持1.81%的正增長。全球移動PC消費有所放緩，2018年面板出貨量2.84億片，同比增長4.49%；2019年1-8月出貨量為1.78億片，同比減少3.05%。

    3.太陽能電池：2019年有望迎來復蘇

    太陽能電池用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶等，純度一般要求在99.99%以上。從分類來看，鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明導電層薄膜。

    全球光伏市場有望在2019年迎來復蘇，達到129GW的光伏裝機量，同比增長25%，中國以外的市場如美國、歐洲等市場將貢獻增量。預計2019年全球太陽能電池用濺射靶材市場容量將達到40.2億美元。

全球太陽能光伏裝機容量

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